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阿貝爾實驗室自從得到莫水的“晶片空間”專利權後,立即在美國的專利局進行登記,同時,由實驗室總部的系統分析專家團透過全面地進行“晶片空間”應用分析後,向全球的實驗分室釋出了新的系統研究支援方案,並透過掌握的眾多的系統周邊的硬體研究實驗室釋出新的系統需求。

就這樣,透過了美國阿貝爾物理實驗室,全球的各個IT相關的基礎性的研究實驗室,開始了新一輪的技術升級研究熱。其實,哪個實驗室會沒有技術儲備呢?!現在,只是因為這些的技術儲備的某些方面已經可能將會走向檯面上了,因此,對新的技術,新的方向,發個公告,表示嚴重關切之後,便繼續著自己的研究罷了。

莫水對於這些資訊基本上是充耳不聞,除了在心裡BS了全球的那些知名的實驗室外,繼續埋頭著自己的實驗。

這陣子,由於程鵬在對I/O匯流排的系統整合方面進行研究,因此,莫水難得的有單獨行動時間。在CLASS100與CLASS10裡面,由於阿貝爾實驗室總部的新的系統解決方案的釋出,現在實驗室裡本來就不多的人,基本上都往設計室去了,與時俱進,實驗室怎麼說都是為了經濟效益服務的,因此,在新的系統解決方案面前,有很多的專案需要進行研究的。這樣的好處,就是為莫水創造了大量的安全實驗時間。

經過了幾天的關鍵性電路的研究實驗後,莫水現在終於可以著手進行完整晶片的製作了。為了能夠保障這一行為動作的絕對安全與隱秘,在CLASS10裡面,莫水製造了大量的在研究南北橋晶片三位一體的研究工作的錄影。

在作足了各項準備工作後,莫水來到上海的初衷,來到阿貝爾實驗室的目的,現在終於走上了最後的關鍵步驟。

Class10實驗室只是提供了90奈米的晶片製造裝置,對於65奈米、30奈米的裝置,老美是不可能會放到中國的實驗室的。但是,就算是90奈米的製造裝置,還是完全滿足了莫水的要求,如果不是受限於晶片物理尺寸的大小,莫水甚至還希望採用更低標準的製造裝置,100奈米或則是130奈米的裝置都是可以的。畢竟“卦象晶片”所使用的電晶體不會超過1。01億個的。當然,如果想開發更高階的,效能更優越的“卦象晶片”,那麼更高水平的晶片奈米制造裝置是必須的。

星期五,中午12點過一刻,Class10實驗室內,莫水正緊盯著監控儀器。

由於是採用奈米蝕刻法(Nanoimprintlithography,簡稱NIL),來進行晶片製作,因此,關鍵的地方就是要設計好模型。而這模型,莫水已經是完全地建立了起來,並且也經過了區域性的電路試驗,所以,出成品的成功率是相當的高的。

其實,整個晶片,結構是相當簡單的,就是簡單的電子卦的一個集合而已。但是,越簡單的東西,所能發揮的效果就越大。

易簡而天下之理得矣!“卦象晶片”其實也就是這個道理。

在實驗臺上進行晶片的製作,過程說快也快,說不快,那當然不能和工業化的比較。在下午上班之前,莫水已經得到了三片3cm*3cm*3cm這樣尺寸的晶片。為了能夠得到這樣的尺寸的晶圓,莫水也是煞費苦心過。這種尺寸的晶片,應該是在業界從來不曾出現過的。畢竟從常理來看,晶片厚度是關係到晶片散熱的關鍵問題,把晶片厚度尺寸作的如此厚,那是根本不可想象的,但是,現在在“卦象晶片”中,量子態的電子集團的執行,基本不產生熱效應,這為晶片的厚度創造了條件。

其實,整個“卦象晶片”是一箇中空的八卦球體,圍繞著後天文王八卦的電子卦依據這八個卦層層地展開著。在這裡面,只存在著規則,數理執行的規則,八卦的規則,除了這

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