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第143章 晶片流片 (第2/2頁)

的商業市場非常困難,維度集團卻依舊在穩步前進。

2020年2月23日。

這一天非常普通,對龍國晶片行業而言,卻是一個值得被銘記的時刻。

經過三個月的安裝除錯,維度半導體公司第一車間的四條晶片生產線,在今天將第一次對七奈米制程的晶片進行流片。

如此特殊的時刻,自然少不了重要人物到場。

一大早,龍潛等維度集團高層,菊廠的任老爺子和餘大嘴,以及官方相關部門的領導都趕到了現場。

他們沒有進入生產線內部,只是站在廊道當中,隔著玻璃看一眾專家和研究人員的操作。

“開始吧!”

確認所有人到位後,專案負責人陳培顯拿起對講機,宣佈流片開始。

生產線最前端,早就準備好的矽片被機器推出,率先進入掃描檢查裝置,確認是否破損。

晶片生產作為人類最精密的科技,大部分步驟都是由機器完成,也只能由機器完成。

就像現在的檢查,因為涉及到七奈米晶片的生產,人類肉眼檢查的精度完全不夠,只有機器才能完成。

檢查完成後,矽片沿著生產線被運送到清洗裝置當中,沖洗掉矽片上可能附著的灰塵雜質。

清洗完成,又經過烘乾程式,矽片這才進入到勻膠階段。

勻膠機內部,光刻膠在機器作用下,均勻塗抹在了矽片上,形成一道光刻膠薄膜。

渡完膜的矽片隨著生產線前進,很快便被貼上一張早已製作好的掩膜版。

直到此刻,矽片才能進入曝光階段,使用到眾人熟知的光刻機。

這也是整個晶片生產中,工藝最為複雜的環節。

掩膜板上有預先設計好的電路圖案,光刻機的極紫外線光束照射下,立刻就與電路圖案區域的光刻膠形成反應,在光刻膠這一層形成了掩膜版中的電路圖案。

曝光完成之後就是顯影,使用可以與被改變性質的光刻膠產生反應的顯影液,將其完全溶解。

顯影之後,又是一個清洗烘乾的程式,然後繼續被傳送到蝕刻機當中進行蝕刻。

因為現在的電晶體結構,都是多層次三維立體的,所以不可能一次性完成矽片的加工。

以上的程式,會繼續重複6到8次,才能獲得最終的3d電晶體。

如此,再次經過離子注入、 清除各種殘留、絕緣層處理、cmp研磨後等等多個步驟後,才算是將一塊矽片加工完成。

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